| 送交者: 魏习加[☆★★社区平天下平★★☆] 于 2022-10-02 23:32 已读 540 次 | 魏习加的个人频道 |
回答: High NA EUV光刻的成败 由 魏习加 于 2022-10-02 17:13
尚没有其它方案可以有类似的潜力吧。电子束直写的精细度可以，但速写、效率，还是无法相比。EUV光刻机的throughput是一分钟一两百片。纳米印刻尚有许多技术难关需要突破，最大的难题大概是缺陷密度。 6park.com高处不胜寒。现在7nm，5nm就已经需求不旺了（据传台积都关掉几台EUV机台了；听说Intel手里的那些EUV，估计从来就没有用上全部产能 - 就是这里玩玩，那里玩玩），再过三五年3nm，2nm能够真的投入规模生产吗？Low NA EUV机台的本钱都还没赚回来，怎么可能去烧钱买一台顶两三台（当前的Low NA EUV）价格的High NA EUV机台？
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